基于空间光调制器的TASS制备技术面临哪些关键挑战？

问题描述

精选答案

基于空间光调制器的TASS制备技术到底面临着哪些关键挑战呢？

材料性能方面

• 材料均匀性：空间光调制器所使用的材料均匀性不佳，会导致光调制的一致性差，使TASS的性能受影响。例如液晶材料，若存在杂质或取向不一致，就会在调制光时产生误差。
• 材料稳定性：在不同环境条件下，材料的光学和电学性能可能发生变化。如温度、湿度的改变，可能使材料的折射率等参数改变，影响TASS的制备和使用效果。

制造工艺方面

• 微纳加工精度：TASS的制备需要高精度的微纳加工技术。如果加工精度不够，会造成结构尺寸偏差，影响光的调制和传输，导致TASS性能下降。
• 工艺重复性：难以保证每次制造工艺的完全一致，不同批次产品的性能可能存在差异，这不利于大规模生产和应用。

系统集成方面

• 与其他光学元件的兼容性：TASS需要与多种光学元件集成，如透镜、探测器等。若兼容性不好，会导致光的耦合效率低、像差增大等问题。
• 系统的稳定性和可靠性：在实际应用中，系统可能会受到振动、电磁干扰等因素影响，如何保证系统的稳定性和可靠性是一个关键挑战。